辐射固化技术基础化学

辐射固化的基本化学反应是由UV或EB辐射（主要使用UVUV辐射）引起的不饱和化合物聚合。UV和EB两种固化方法之间的差异在于能量和生成的差异自由基不同的来源。 就固化系统而言，UV固化系统必须包含光引发剂，而EB固化体系不包含光引发剂。 此外，它们的其余部分由低聚物组成，即活性稀释剂，阻聚剂，辅助剂。该试剂由四个部分组成。 低聚物是在末端具有不饱和基团的大分子化学物质，其决定了固化膜的基本性能。 目前，常用的低聚物是双酚A环氧丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯，聚醚丙烯酸酯，聚氨酯丙烯酸酯和不饱和聚酯八种化合物。

活性稀释剂是末端带有不饱和基团的单体化合物，分为两种类型:单官能和多功能，例如三甲基丙烷三丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，乙烯基吡啶，苯乙烯和其他十种 化合物。 常用的光敏剂是自由基型光引发剂，在UV照射后变成激发态，引起分裂而产生自由基，或者由三级胺的组合使用或碳氢化合物并存提取出氢而产生自由基，常用光敏剂有安息香双甲醚，二甲苯等九种化合物。

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